• IrTa 涂層鈦電極的制備實(shí)例

    發(fā)布時(shí)間: 2023-02-06 瀏覽:946

      實(shí)例1:鈦板噴砂打磨粗糙化,在10%(質(zhì)量分數)草酸溶液中煮沸1h,以增強涂層與基體的黏著(zhù)度。通常,這樣預處理鈦表面粗糙化深度為5μm。用蒸餾水沖洗干凈,在 100℃下干燥。涂液用毛刷涂敷在鈦基板上。涂液的配制:6.49g H2IrCI6?6H2O 和2.05g TaCl5溶解在3mL的濃HCI(p=1.18g/m3)47mL正丁醇混合液中。試劑等級為化學(xué)純。涂液涂敷后120℃下干燥,在500℃下熱氧化10min。涂敷過(guò)程反復進(jìn)行,至獲得所需要的 6μm涂層厚度為止。

      實(shí)例2:鈦基體酸蝕刻條件是30% HCI,50℃,2h;涂液配制,H2IrCl6溶于HCI,TaCl5溶于乙醇,將兩種溶液混合,Ir:Ta(摩爾比)= 65%: 35%。銥濃度為 0.26mol/L,鉭濃度0.17mol/L。450℃熱氧化10min,最后1次450℃下燒結1h。


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